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SK Hynix宣布了High EUV设备EXE的首次质量:5200B
今年9月的第三次新闻,SK Hynix现在宣布,它在韩国Lichuan的M16工厂推出了首个群众群体群众群,并举办了家具节。高EUV比当前的EUV具有更高数量的光圈(它),这极大地改善了分辨率,并且能够绘制目前最佳的电路模式,并且有望在减少线路宽度和改善集成方面发挥关键作用。主页注:孔径是用于测量镜片收集光的功能的数字。值越大,绘制电路模式的精度就越高。每种晶圆的芯片越准确,芯片越多,它也可以有效地改善kahuenergy和性能。据报道,此时引入的设备是荷兰ASML推出的Twinscan Exe:5200b。这是第一个高欧战EUV光学波长为13.5nm,分辨率为8nm。与现有的EUV设备(为0.33)相比,其光学性能(为0.55)提高了40%,这一改进提供了可创建电路模式,准确性高达1.7倍,并提高了2.9倍的集成。
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